光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，占芯片制造时间的40%~50%，光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。

图片来源于网络，如有侵权，请联系删除

光刻胶的应用范围主要有PCB板，LCD，LED和半导体，前面三种技术要求相对较低，但我国企业仍然没有实现完全自给。而半导体光刻胶技术壁垒较高、市场高度集中，几乎被日美企业垄断，生产商主要有日本JSR、信越化学工业、日本TOK、陶氏化学等。

国产光刻胶通过量产验证

据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高。

光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，主要由感光树脂、增感剂和溶剂3种材料组成的对光敏感的混合液体，可在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料，是光刻工艺最重要的耗材，对光刻精度至关重要，光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠，是半导体产业最关键的材料。

光刻胶所在产业链覆盖范围十分广泛，从上游基础化工材料行业、精细化学品行业到中游光刻胶制备，到下游PCB、面板、半导体产业，再到电子等应用终端。光刻胶作为微电子领域微细图形加工核心上游材料，占据电子材料至高点。

中国光刻胶行业市场现状及前景分析

近年来，随着人工智能、大数据、云计算、物联网、汽车电子等应用领域的快速发展，半导体行业逐渐恢复增长，并成为全球科技竞争的重要战场。从全球范围来看，在经历了一轮去库存周期后，全球半导体市场呈现出持续复苏态势。

2024年7月全球半导体销售额同比增长18.7%，连续9个月实现同比增长，环比增长2.7%;根据WSTS的预测，上调预测2024年全球半导体市场销售额同比增长16%，预计2025年将同比增长12.5%。

随着全球半导体制程向着更先进、更精细化方向发展，驱动了半导体制造对光刻胶的需求增长。

据中研产业研究院分析：

我国光刻胶的研究始于20世纪70年代，最初阶段与国际水平相差无几，几乎和日本同时起步，但由于种种原因，差距愈来愈大。近年来随着半导体市场在我国迅速发展，光刻胶及其配套试剂在中国市场上呈快速增长的态势。

根据SEMI数据，2022年全球半导体光刻胶市场规模为26.4亿美元，同比增长6.82%;大陆半导体光刻胶市场规模为5.93亿美元，同比增长20.47%，增速远高于全球半导体光刻胶市场。

我国半导体产业、面板产业和PCB产业主要集中在长三角、珠三角和环渤海地区和成渝鄂地区发展，其中面板产业和PCB产业的产业集群已经初步形成，半导体产业集群化分布进一步显现，已初步形成以长三角、环渤海、珠三角三大核心区域聚集发展的产业空间格局。

我国光刻胶生产及研发企业也主要围绕这些产业的区域发展而布局，目前光刻胶生产及研发企业也主要集中在长三角、珠三角地区。

受益于国家红利政策的扶持，中国本土光刻胶制造商积极提升光刻胶产品技术水平和研发能力，推进光刻胶国产化的进程。未来，中国有望突破高端光刻胶产品的技术壁垒，带动中国光刻胶产量进一步提升。在国家一系列红利政策带动下，国内半导体、平板显示及PCB行业发展势头良好，我国光刻胶产量呈现稳中有升态势。

与此同时，全球半导体产业、平板显示器、PCB行业逐渐向中国转移，带动中国光刻胶的需求激增，中国光刻胶行业拥有较大发展空间。

想要了解更多光刻胶行业详情分析，可以点击查看中研普华研究报告。报告对我国光刻胶行业的发展状况、上下游行业发展状况、市场供需形势、新产品与技术等进行了分析，并重点分析了我国光刻胶行业发展状况和特点，以及中国光刻胶行业将面临的挑战、企业的发展策略等。